今天给大家介绍一下工业废水处理工程工艺技术方法中半导体含氟废水是如何产生的

半导体行业制造工艺庞杂，工艺步骤高达上百余步，同时运用多种化学试剂和特别气体。重要生产工序包含：硅片清洗、氧化÷分散、化学气相沉积（CVD）、光刻、去胶、干法刻蚀（DE）、湿法侵蚀（ WE）、离子化、金属化（溅射镀膜PVD、电镀铜）、化学机械抛光CMP检测。其中刻蚀工序等运用氢氟酸、氟化铵及用高纯水清洗，这就是含氟废水的起源。

含氟废水，对人体的粘膜、上呼吸道眼睛、皮肤组织有极强的损坏作用。吸入后可因喉及支气管的炎症、水肿痉挛及化学性肺炎、肺气肿而致逝世。中毒体现有烧灼感、咳嗽、喘息喉炎、气短、头痛恶心和呕吐。所以处理好半导体行业中含氟废水变得十分重要。

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【文章来源：工业废水处理工艺方法】