今天给大家介绍一下工业废水处理工程工艺技术方法中半导体含氟废水处理方法

半导体含氟废水的处理方法有很多，如吸附法、冷冻法、离子交换树脂除氟法、活性炭除氟法、超滤法、电渗析法，至今很少推广应用，主要原因成本高，除氟率低。目前比较实用的是以化学沉淀法和混凝沉淀法为基础形成的处理方法。我们以某半导体厂的含氟废水处理工程实例为对象，对药剂投加量、pH对处理效果的影响等方面进行了研究和总结。

1半导体含氟废水处理流程概述

消耗过程中发生的废水收集于收集池中，经水泵提升至中和池调节pH值；后流入第一反应池，废水中的 F－和Ca2＋反应生成CaF2沉淀；后流入第二反应池，CaF2和PAC发生电离子和水解作用，同时发生络和反应，提高CaF2的颗粒大小，增强CaF2的沉降性能；废水流入絮凝池，PAM通过架桥的作用进一步提高沉淀的沉降性能；反应后的半导体含氟废水在沉淀池中实现泥水分离。

中和池第一反应池、第二反应池和絮凝池都装有搅拌机，与含氟废水的输送泵联动。CaCl2 在流程中有二个投加点，宗旨是逐级加药，勤俭加药量。中和池、第一反应池和第二反应池的pH值尽可以接近实验数据，即保持弱碱性，三个池子都安装了H2SO，和NaOH加药管，当加碱量过多的状态下，适量投加H2SO4中和。

2半导体含氟废水处理系统控制

系统采用全自动控制，中和池、第一反应池、第二反应池均设备在线的pH计和氟表，随时检测废水的数据。H2SO4、NaOH和CaCl2的加药管道采用环路设计，既可以保证化学品的均匀，又便于控制加药管道上的自动阀，根据在线仪表的数据及时调整加药量。

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【文章来源：工业废水处理工艺方法】